2、清洁介质

    PLAN52不加压冷却方式：利用压力小于工艺流体压力但不低于大气压力的阻隔流体，注入密封室中。由于隔流体压力小于工艺流体压力，少量工艺流体泄漏至阻隔流体中，被阻隔流体出密封室，到密封系统或放空系统中进行处理，从而避免工艺流体的直接排放大气和环境的污染。

    技术要求：

    1、低压阻隔流体防止渗漏，但阻隔液压力不得低于0.7公斤/厘米

    2、阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶

    3、阻隔流体的流向应与轴的旋向相同

    适应场合：

    低沸点、易汽化的介质

    危险品

    不允许介质被污染的制药行业

    PLAN53加压冷却方式：利用压力大于工艺流体和大气压力的阻隔流体注入密封室中，由于阻隔流体压力大于工艺流体压力，防止了工艺流体向阻隔流体的泄漏，从而有效地防止工艺流对大气和环境的污染。

    技术要求:

    1、阻隔流体压力至少比密封腔压力高1-2公斤/厘米

    2、阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶

    3、阻隔流体的流向应与轴的旋向相同

    适应场合：

    易结晶或固化的介质

    易聚合介质

    常温含颗粒的介质

    PLAN54加压冷却方式：利用加压泵给阻隔流体加压，压力比工艺流体压高1-2公斤/厘米2一方面，提高阻隔流体的循环速度，加快对密封面的冷却；另一方面，阻止工艺流体通过内侧密封向阻隔流体系统的泄漏，避免工艺流体对大气和环境的污染。

    技术要求：

    1、阻隔流体压力比密封腔内工艺流体压力高1-2公斤/厘米